武漢鐳星生產(chǎn)的介質(zhì)膜凹面高反鏡適用于光束匯聚，準(zhǔn)直或光束收集，其在工作范圍內(nèi)具有較高的反射率。介質(zhì)膜凹面反射鏡凹面鍍有介質(zhì)反射膜，背面可磨砂，檢測(cè)拋光或鍍?cè)鐾改?，反射率在工作波長(zhǎng)范圍內(nèi)平均可達(dá)到99.5%。
| 材料 | H-K9L，紫外融石英 |
| 尺寸公差 | +0.0/-0.2mm |
| 厚度公差 | ±0.2mm |
| 通光孔徑 | >90% |
| 表面質(zhì)量 | 60/40 sctrach and dig |
| 面形 | <λ/10@633nm@每25mm |
| 倒角 | 保護(hù)性<0.2mmx45deg |
| 鍍膜 | 一面鍍介質(zhì)高反膜，R>99.5%，反面細(xì)磨或者檢測(cè)拋光or增透膜 |
| 損傷閾值 | >5J/cm2, 20ns, 20Hz, @1064nm |
| 型號(hào) | 材料 | 直徑(mm) | 焦距(mm) | 使用波長(zhǎng)(nm) | 入射角(°) |
| VMIRD25.4-0 | BK7 | 25.4 | 100 | 355&633&1064 | 0 |
| VMIRD50.8-0 | BK7 | 50.8 | 500 | 355&633&1064 | 0 |
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